攻克前道光刻“滴液”难题：Festo 压电回吸方案，定义液体控制新精度 - 资讯 - MM自动化与驱动网

攻克前道光刻“滴液”难题：Festo 压电回吸方案，定义液体控制新精度

费斯托中国 2026-07-27

面对严苛的洁净度与稳定性要求， Festo「液体回吸控制方案」以“精准 + 零污染”的双重保障，为工艺可靠性上足“双保险”。

在半导体晶圆制造的前道工艺（清洗、涂布、光刻、显影、蚀刻…）中，光刻胶等“金贵”液体的精准分配，是良率控制的生死线。

液体昂贵，浪费不起；余滴残留，整批报废。

压力稳定性直接影响出液一致性和良率。

面对严苛的洁净度与稳定性要求， Festo「液体回吸控制方案」以“精准 + 零污染”的双重保障，为工艺可靠性上足“双保险”。

针对多通道光刻胶（PR）点胶旋涂这一核心场景，Festo基于压电技术推出智能气动控制方案，打通从“压力调节”到“回吸控制”的全链路闭环：

核心突破：压电技术的精准艺术

· 精密压力控制：压电技术实现毫秒级响应速度、微米级回吸定位精度，出胶量“分毫不差”，实现零滴落、零残留；

· 数字化集成：EtherCAT总线控制，1个终端控制10条通道，模块化集成，易扩展；

· 长效低成本：压电元件无机械磨损，大幅降低全生命周期成本（TCO）。

硬核产品

比例压力阀岛VTEP：

· 结构紧凑：10个通道，总宽度<120mm

· 高动态响应，高精度，正负压控制

· 灵活调压，可个性化设置控制参数

· 数字通讯接口：EtherCAT

· 压电优势：低能耗，无磨损，不发热，静音运行

比例压力调节阀VEAB：

· 仅用一个阀即可实现真空和/或超压控制

· 高动态响应，开关时间极短，适用于低流量精密场景

· 可选配IO-Link接口，支持参数自定义、两点校准及诊断功能

· 运行安静、低发热，通过高效压力控制降低能耗

Festo 致力于交付提升良率、降低成本、保障稳定的系统性流体控制解法。Festo 液体回吸控制方案让每一滴昂贵液体都物尽其用。

文章来源：费斯托中国

图片来源：费斯托中国

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责任编辑：朱晓裔

审核人：李峥

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