全球领先的批量成像设备供应商得可公司(DEK)将在即将到来的2011年NEPCON华南展会上带来其最新的印刷创新和技术。得可的全程解决方案包括了一系列硬件、软件和相关服务,从屡获殊荣的印刷平台Horizon APiX、最新的HawkEye Bridging印刷后检验创新技术到突破性的ProActiv和Nano-ProTek技术,应有尽有。
除此之外,得可还将带来丰富的客户体验。客户将通过iPad互动来了解信息,这在工业展会上是全新的尝试。届时观众们将在得可的展台上看到丰富多彩的先进产品和服务的现场演示。
得可最新的HawkEye Bridging技术建立在HawkEye系统的成功基础之上,集成后者所有优势的同时,又进行了拓展,拥有桥连和污染检测的功能。HawkEye在设计之初就考虑到了操作员的实际需要,这个高速的焊盘焊膏检验系统能够向操作员发出实时的合格/不合格指令。现在,有了HawkEye Bridging新功能所提供的桥连和污染检验创新技术,操作员对于问题的控制和预防有了更好的把握。
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